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硅检测专用仪

简要描述:ICP7800型金属硅、工业硅检测专用仪,具有突出的抗干扰和分析检测性能,应用于研发、检测等分析需求,可方便进行定性、半定量和精确定量分析,是常量、微量和痕量无机元素同时分析的理想仪器。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-05-21
  • 访  问  量:1072

详细介绍

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1. 金属硅、工业硅检测专用仪应用范围

ICP7800型金属硅、工业硅检测专用仪,具有突出的抗干扰和分析检测性能,应用于研发、检测等分析需求,可方便进行定性、半定量和精确定量分析,是常量、微量和痕量无机元素同时分析的理想仪器。

2. 工作环境

电压:220V AC±10%MKJ

室温:环境温度(10-30)℃

相对湿度:(20-80)%RH

3. 金属硅、工业硅检测专用仪技术规格

3.1. 等离子体射频源:

3.1.1:全数字控制的双电源设计射频电源,更宽功率范围500-1600W,功率可调,具有更强的样品适应性;

3.1.2:自激式RF射频发生器:自激式电源匹配速度快,功率负载能力强,可以直接分析100%的甲苯样品。自动调谐,水冷散热,适应复杂样品分析功率切换,无运动部件,抗震抗干扰,更加可靠;

3.1.3:LOW模式:提供500W超低功率待机,降低氩气消耗50%以上,待机时氩气用量≤5L/min;

3.1.4:等离子体观测方式:可配置轴向、径向、双向和同时双向四种观测模式。垂直矩管可避免高盐沉积,延长炬管使用寿命,降低炬管耗材支出。轴向观测使用金属冷锥去除尾焰,获得较高的灵敏度,无需配置空气压缩机,节省外部配件及消耗。径向观测的等离子观测位置可调,针对不同元素的分析需求,具有更强的抗干扰能力;

3.1.5:智能衰减:具有轴向衰减和径向衰减功能,可衰减100倍以内浓度的样品,使得样品高含量元素,能够一次分析完成,不需要反复稀释,降低样品前处理难度,支持简化分析;

3.1.6:RF射频频率:27.12MHz,耦合效率大于80%;

3.1.7:RF功率稳定性: ≤0.1%;RF频率稳定性:≤0.01%。

3.2. 光学系统:

3.2.1:恒温三维光学系统,反射次数少,光能量损失低。所有光学元件均密封于热平衡光室中,主机与光室热隔离设计,更好的抵御外界环境温度变化。光室:精密恒温36℃±0.1℃,驱氩气;

3.2.2:稳定高效的全固定中阶梯光栅分光系统,无运动部件,抗震强,稳定可靠;

3.2.3:波长范围:165-900nm,全波长覆盖;

3.2.4:单色器:焦距:400mm,全反射成像光路,石英棱镜二维色散系统;

3.2.5:中阶梯光栅:53.6L/mm,63.5度闪耀,刻数越多,分辨率越高;

3.2.6:波长校正: 每次点火,仅用Ar谱线,自动进行光谱位置校正,保证分析波长的正确性,无须波长校正溶液;

3.2.7:全谱实时校准技术(TARC):利用无干扰的氖特征谱线,对光谱的细微偏移进行实时校正,实现光谱的优积分,确保长期稳定性,良好消除光谱漂移对于测量的影响;

3.2.8:吹扫型光室:对189nm以下波长测定,选择氩气进行光路吹扫,无需使用真空泵,避免真空返油,污染光室;

3.2.9:杂散光:≤2.0mg/L(10000mg/L Ca溶液在As 188.980nm处测定);

3.2.10:光学分辨率(FWHM):≤7pm @200 nm(分辨率和检出限须在相同条件获得);

3.2.11:可扩展深紫外Cl/Br分析功能:双光栅设计,使得光谱分析下限达到130nm深紫外区域。

3.3. 检测器:像元级制冷的专有大面阵ECCD检测器

3.3.1:检测单元:1024*1024像素大面阵CCD检测器,一次曝光;

3.3.2:成像尺寸:25.4mm×25.4 mm大面阵成像感光单元,采用24×24um大像元,带来高灵敏度的响应,整体面幅大,能够在高分辨率的同时,获得更宽的光谱范围;

3.3.3:像元级制冷:封装在传感器内部的TEC制冷,直接作用像元,制冷温度大于-10℃,有效防止CCD表面冷凝,无需气体吹扫保护;

3.3.4:防饱和溢出:针对每一个像素进行背泄式防溢出保护设计,消除谱线饱和溢出问题,无需担心谱线饱和对邻近谱线的影响;

3.3.5:智能积分设计:信号背景同步采集,曝光时间取决于谱线的光强,自动计算谱线最佳曝光时间,同时以最佳信噪比获得高强度信号和弱信号,拓宽的动态范围,使高低含量元素可以同时检测,避免试样反复稀释;

3.3.6:检测器表面无任何光转换化学涂膜,不会因为涂层老化而导致检测器损坏更换。

3.4. 样品导入系统:

3.4.1:进样系统:标配石英同心雾化器、石英旋流雾化室、可拆卸式炬管;

3.4.2:可选配氩气在线稀释,高精度MFC控制氩气高效稀释10% 以上的高盐样品,直接进样;

3.4.4:可选配耐高盐或耐HF进样系统、有机进样系统和氢化物发生器;

3.4.5:蠕动泵:12滚轮,4通道蠕动泵,泵速0-125rpm连续自动可调。确保稳定进样的同时,可支持进样管、内标管、废液管和辅助试剂进样管(氢化物发生器)同时运行,有利于复杂样品分析;

3.4.6:气路控制:采用精密质量流量控制器控制多路气体流量,最多可控制五路,包括雾化气、辅助气、冷却气和可扩展的附加气体(O2和Ar),精度0.01L/min。

3.5. 软件性能:

3.5.1:图形化操作界面,软件操作方便、直观,具有定性、半定量、定量分析功能;

3.5.2:基于分类和版本的方法库管理软件,便于方法的管理、维护和传承;内置部分标准方法,有助于提高分析效率;

3.5.3:具有同时记录所有元素谱线全谱数据采集功能,数据可安全存储,支持分析数据保存和检索功能,方便日后再分析;

3.5.4:具有50000条以上的谱线库,每条谱线至少可以选择30个象素点进行测量;

3.5.5:具有全谱采集功能,软件上可直接获取完整全谱图,了解样品光谱及光谱干扰状态;

3.5.6:具有多种干扰校正方法和实时背景扣除功能:如标准比较法、内标法、干扰元素校正系数法(IEC)、标准加入曲线法等,丰富了用户多种分析研究的手段;

3.5.7:具有仪器校准功能,支持炬管准直、光源优化等功能,方便用户日常维护;具有可视化的仪器运行状态监控;

3.5.8:具有登录口令保护,多级操作权限设置和网络安全管理,历史记录保存;

3.5.9:具有可视化炬焰观测模块;

3.5.10:同时具有中英文版本软件;

3.5.11:具有网络远程服务功能,自带远程服务助手,远程诊断,4G网络数据连接技术服务部门对于仪器实现远程诊断维修;

3.5.12:软件设计全面符合电子签名管理的21 CFR Part 11管理法规,软件具有三级管理权限和审计追踪功能,符合3Q认证等法规要求;

3.5.13:可集成自动化分析仪器平台、在线分析仪器平台的软件操作。

3.6. 分析性能:

3.6.1:分析速度:约每分钟200条谱线;

3.6.2:样品消耗量:仅需2ml;

3.6.3:测定谱线的线性动态范围:≥105(以Mn257.6nm 来测定,相关系数≥0.999);

3.6.4:精密度:测定1ppm或10ppm多元素混合标准溶液,重复测定十次的RSD≤0.5%;

3.6.5:稳定性:测定1ppm或10ppm多元素混合标准溶液, 8小时的长时间稳定性RSD≤1%;

3.6.6:检出限:(单位ug/L,按JJG768-2005规定的元素);

Zn213.856

Ni231.604

Mn257.610

Cr267.716

Cu324.754

Ba455.403

0.5

1

0.5

1

1

0.1

3.6.7:可对分析元素的任何一条谱线进行定性、半定量和定量分析,支持内标法、标准加入法、干扰元素校正等方法;

3.6.8:预热时间:从待机状态到等离子体点燃时间小于5分钟。

3.7. 仪器接口(含联用分析软件):

3.7.1可实现自动化消解样品处理工作站联用(消解系统采用石墨消解电热模式,实现消解、定容、进样自动化操作,支持48位以上样品同时处理);

3.7.2具有有机样品直接进样分析系统接口(提供样品制冷功能,温度小于-15摄氏度以下);

3.7.3具有在线消解模块接口(支持在线全自动电热消解和浓度控制、进样管路自动清洗功能);

3.7.4具有在线氢化物发生分析系统接口(支持反应液体自动添加和浓度控制、进样管路自动清洗功能);

3.7.5可连接离子交换工作站进行价态分析或低浓度富集高基体去除的分析;

3.7.6可连接自动进样器进行分析(支持样品位240以上可配置)。

4 金属硅、工业硅检测专用仪附件系统:

4.1计算机系统

4GB内存,500G硬盘,配DVD和键盘鼠标

4.2冷却循环水系统

制冷量1490W,温度范围5-35℃

4.3激光打印机

黑白激光打印机

4.4单相交流稳压器

10KVA,精度1%,输入电压160V-280V,输出电压220v


供应金属硅、工业硅检测专用仪等产品,欢迎咨询。


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